苏大年夜维格收关注函：要求核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造

苏大维格昨天下午在投资者平台表示：“公司光刻机已实现向海内龙头芯片企业的发卖，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向海内干系芯片光刻机厂商供应了定位光栅尺部件。
”

这一也刺激该公司的股价走强，午后“20CM”涨停。

不过随后市场也提出“质疑”，苏大维格所指的光刻机并非大众所理解的芯片制造用光刻机。

苏大维格2023半年报中曾提及，“公司光刻设备已向海内某芯片龙头企业实现发卖，并向海内厂商供应运用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”，与本日在投资者平台的回答内容类似。
不过，公司在互动平台的表述，“光刻设备”一词变成了“光刻机”，引发市场遐想。

苏大维格昨日成交额15.55亿元，换手率25.89%，盘后龙虎榜数据显示，深股通专用席位买入2765.91万元并卖出2953.24万元，中信证券北京呼家楼业务部净买入6236.74万元，三机构净卖出7267.14万元。

稍晚时候，苏大维格在互动平台表示，在大类上，光刻机紧张有两种类型。
第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各种芯片的批量生产，这类光刻机技能工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成干系图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微构造的制备。
公司长期从事光刻机的研制，光刻机实现了从自用到发卖给国内外科研院所，再到发卖给干系企业的发展路径。
目前，公司对外发卖的光刻机紧张为激光直写光刻机，个中在科研教诲领域具有一定的有名度和市场霸占率，在其他行业和领域已实现的发卖金额相对较小，部分运用领域离国际前辈水平具有一定差距，须要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司设备紧张为自用，对外发卖金额与直写光刻机比较较小；此外，公司也开拓了投影扫描的光刻设备，拟运用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现发卖。

本文源自金融界