27亿一台！ASML展示最新EUV光刻机内部画面：不怕被偷师嘛

该系统已得到英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔操持在 2025 年年底开始利用该系统进行生产。

High-NA EUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条，是上一代产品的1/1.7。
更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管，从而实现更快的处理速率和更高的存储容量，这对付人工智能事情负载至关主要。

该公司上季度收到了创记录的顶级EUV光刻机订单，显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技能的乐不雅观预期，由于各类成分限定，中国厂商是没办法被许可购买这些设备的。

有网友乃至感慨，即便这些内部构造展示给国产厂商，可能真正阻碍下也没办法去逆向推演复刻。