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IISc与三星半导体印度研究所合作加强片上静电放电(ESD)保护解决筹划的研发,印度 种姓制度。

深圳市名雕装饰股份通讯 2024-11-23 0

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据TNN 2月8日宣布,印度科学研究所(IISc)与三星电子的子公司三星半导体印度研究所(SSIR)互助,促进片上静电放电(ESD,两个带电物体之间电流的溘然和瞬间流动)保护领域的研发。

IISc表示:“该互助伙伴关系寻求建立前辈的ESD设备办理方案,以保护前辈集成电路(IC)和片上系统(SoC)产品中的超高速串行接口。

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图片来自:TNN

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(图片来自网络侵删)

干系研究将由印度科学院电子系统工程系(DESE)的Mayank Shrivastava教授团队进行,该研究产生的办理方案将支配在三星的前辈工艺节点中。

“IC和SoC对付我们周围的任何系统,无论大小,都是必不可少的,但它们对ESD故障非常敏感,特殊是那些利用前辈的纳米级CMOS(互补金属氧化物半导体)技能开拓的系统,大多数IC芯片故障和现场退货都归因于ESD故障,”印度科学研究所阐明了此类研发的背景。

IISc补充说,ESD干系技能是一种罕见的专业知识,拥有设计ESD保护设备和接口观点的行业引领市场,因此,用于高可靠接口和低功耗高速运行SoC的ESD技能的研发是半导体创新事情的主要组成部分。

(编译:晋阳)

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