超干货！ICP-MS小白进阶指南

写在前面

ICP-MS是一种将ICP技能和质谱结合在一起的剖析仪器，它能同时测定几十种痕量无机元素，在无机实验室地位斐然，本日小析姐就其发展史、检测事理、构造、检测范围、保养掩护及其它把稳事变等，和大家进行磋商，让ICP-MS变的更大略。

ICP-MS发展简述

ICP-MS（Inductively coupled plasma mass spectrometry），全称电感耦合等离子体质谱。
因此电感耦合等离子体作为离子源，以质谱进行检测的无机多元素剖析技能。
ICP-MS技能起源于已有的两种技能——氩气ICP和四级杆质谱仪，这些系统虽然还须要在ICP与质谱仪的接口方面作一些改进。

电感耦合等离子体(ICP)和质谱(MS)技能的联姻成为20世纪80年代初剖析化学领域最成功的创举，也是剖析科学家们最富有成果的一次国际性技能互助。

从1980年Houk等人的第一篇ICP-MS可行性文章揭橥，到1983年第一台商品化仪器的问世只有3年韶光。

只管早期ICP-MS系统昂贵、弘大、繁芜、自动化程度有限，而且旗子暗记漂移严重，但低检出限的多元素同时检测和大略的质谱信息输出(包含同位素比值信息)等显著的优点使人们很快接管了这项刚涌现的技能。

常用术语

ICP-MS事理及基本构

1.ICP-MS基本事理

样品进行ICP-MS剖析时一样平常经由以下四步：

（1）剖析样品常日以水溶液的气溶胶形式引入氩气流中，然后进入由射频能量引发的处于大气压下的氩等离子体中央区；

（2）等离子的高温使样品去溶剂化、汽化解离和电离；

（3）部分等离子体经由不同的压力区进入真空系统，在真空系统内，正离子被拉出并按其质荷比分离；

（4）检测器将离子转化为电子脉冲，然后由积分丈量线路计数；

电子脉冲的大小与样品等分析离子的浓度有关，通过与已知的标准或参比物质比较，实现未知样品的痕量元素定量剖析。

2.ICP-MS基本布局

一个标准的ICP-MS仪器分为三个基本部分：

（1）ICP（样品引入系统，离子源）

（2）接口（采样锥，截取锥）

（3）质谱仪（离子聚焦系统，四级杆过滤器，离子检测器）

紧张构造解析

1.样品引入系统

ICP哀求所有样品以气体、蒸汽和细雾滴的气溶胶或固体小颗粒的形式进入中央通道气流中。
针对付不同样品性状，有多种引入办法。

（1）流动注射进样特点：样品用量少，对溶液TDS和粘度哀求不高，设备大略灵巧；

（2）电热蒸发直接进样特点：进样量少，传输率高（＞60%），可预先去除溶剂，可预先去除基体；

（3）氢化物发生进样特点：靠近于100%的传输率，与溶液基体充分分离，具有预富集的效果；

（4）激光烧蚀法进样特点：原位无损剖析，重现性好，线性范围宽，适用于多种样品（包括钢铁、陶瓷、矿物、核材料、食品等）。

2.雾化器

ICP-MS中紧张利用三种类型的雾化器：

（1）同心雾化器。

气流与毛细管平行，气流迅速通过毛细管末端，溶液由毛细管引入低压区，低压与高速气流共同将溶液破碎成气溶胶。

优点：灵敏度高、稳定性好

缺陷：易堵塞、改换本钱高、玻璃材质不耐氢氟酸。

（2）交叉流雾化器。

利用高速气流与液流之间打仗使液体破碎产生气溶胶。

优点：坚固且易于洗濯、不宜堵塞

缺陷：雾化效果比同心雾化器略差。

（3）Babington型雾化器。

气流从一细孔中高速喷出，将沿V型槽流下的蒲层液流破碎成雾滴。
Babington型雾化器事实上是交叉流雾化器中的一种。

优点：适应高盐分试样

缺陷：雾化效率低

3.离子源

ICP-MS 因此电感耦合等离子体作为离子源。

ICP火焰的形成有三个条件：高频电磁场、事情气体、能坚持气体稳定放电的石英炬管。
如上图，在管子的上部环抱着一水冷感应线圈，当高频发生器供电时，线圈轴线方向上产生强烈振荡的磁场。
用高频火花等方法使中间流动的事情气体电离，产生的离子和电子再与感应线圈所产生的起伏磁场浸染，这一相互浸染使线圈内的离子和电子沿图示所示的封闭环路流动。
它们对这一运动的阻力则导致欧姆加热浸染。
由于强大的电流产生的高温，赌气体加热，从而形成火炬状的等离子体。

等离子体指的是含有一定浓度阴阳离子，能够导电的气体稠浊物。
在等离子体中，阴阳离子的浓度是相同的，净电荷为零。
常日用氩形成等离子体。
氩离子和电子是紧张导电物质，一样平常温度可以达到10,000K。
等离子体是一种电荷放电，而不是化学火焰！

4.接口

接口是全体ICP-MS系统最关键的部分。
其功能是将等离子体中的离子有效传出到质谱。

在质谱和等离子体之间存在温度、压力和浓度的巨大差异，前者哀求在高真空和常温条件下事情(质谱技能哀求离子在运动中不产生碰撞)，而后者则是在常压下事情。

如何将高温、常压下的等离子体中的离子有效地传输到高真空、常温下的质谱仪，这是接口技能所要办理的难题。
必须使足够多的等离子体在这两个压力差别非常大的区域之间有效传输，而且在离子传输的全过程中，不应该产生任何影响终极剖析结果可靠性的反应，即样品离子在性子和相比拟例上不应有变革。

ICP-MS对离子采集接口的哀求:

（1）最大限度的让所天生的离子通过；

（2）保持样品离子的完全性；

（3）氧化物和二次离子产率尽可能低；

（4）等离子体的二次放电尽可能小；

（5）不易堵塞；

（6）产生热量尽可能少；

（7）采样锥在等离子体内,通过软件操作,自动确定最佳位置(X、Y、Z方向)；

（8）易于拆卸和掩护(锥口拆冼过程中,不影响真空系统,无需卸真空)。

采样锥：浸染是把来自等离子体中央通道的载气流，即离子流大部分吸入锥孔，进入第一级真空室。
采样锥常日由Ni、Al、Cu、Pt等金属制成，Ni锥利用最多。

截取锥：浸染是选择来自采样锥孔的膨胀射流的中央部分，并让其通过截取锥进入下一级真空。
截取锥安装在采样锥后，并与其在同轴线，两者相距6-7mm，常日也由镍材料制成，截取锥常日比采样锥的角度更尖一些，以便在尖口边缘形成的冲击波最小。

5.离子聚焦系统

ICP-MS的离子聚焦系统与原子发射或接管光谱中的光学透镜一样起聚焦浸染，但聚焦的是离子，而不是光子。
透镜材料及聚焦事理基于静电透镜。
全体离子聚拢系统由一组静电掌握的金属片或金属筒或金属环组成,其上施加一定值电压。

其事理是利用离子的带电性子,用电场聚拢或偏转牵引离子，将离子限定在通向质量剖析器的路径上，也便是将来自截取锥的离子聚焦到质量过滤器。
而光子以直线传播，中性粒子不受电场牵引，因而可以离轴办法偏转或采取挡板、90°转弯等办法，谢绝中性原子并肃清来自ICP的光子通过。

6.四极杆滤质器

四极杆的事情事理是基于在四根电极之间的空间产生一个随韶光变革的分外电场，只有给定质荷比(m/z)的离子才能得到稳定的路径而通过极棒，从其另一端出射。
其离子将被过分偏转，与极棒碰撞，并在极棒上被中和而丢失。

四极杆是一个顺序质量剖析器，必须依次对目标质量进行扫描，并在一个丈量周期内采集离子。
其扫描速率很快，大约每100毫秒可扫描全体元素覆盖的质量范围。

7.离子检测器

四极杆系统将离子按质荷比分离后终极引入检测器。
检测器将离子转换成电子脉冲，然后由积分线路计数。
电子脉冲的大小与样品等分析离子的浓度有关。
通过与己知浓度的标准比较,实现未知样品的痕量元素的定量剖析。

特点与运用

电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)是20世纪80年代早期发展起来的商品化的剖析技能。
这项技能已经运用于险些所有剖析领域内痕量、微量和常量元素的测定。
该技能的上风包括:

元素覆盖范围宽：包括碱金属、碱土金属、过渡金属和其它金属类金属、稀土元素、大部分卤素和一些非金属元素；

性能好：灵敏度高，背景旗子暗记低，检出限极低；

剖析速率快：由于四极杆剖析器的扫描速率快，每个样品全元素测定只需大约4分钟；

线性范围宽：一次丈量线性范围能覆盖9个数量级；

能够供应同位素的信息。

ICP-MS由于在速率、灵敏度、动态范围和元素丈量范围中的上风而处于独一无二的地位。
能够快速丈量高浓度的元素(ppb到ppm级)的特点使其成为AES的可行的替代方法。

同时ICP-MS在许多痕量和超痕量元素测定中超越了石墨炉原子接管光谱法(GFAAS)的检出能力(ppt级)，ICP-MS能丈量险些所有的样品,并且实现了一次采集完成多元素同时测定，同时供应同位素的信息。

形态剖析是ICP-MS发展最快的领域之一，即色谱技能与ICP-MS的联用。
个中ICP-MS作为检测器测定样品中元素的化学价态。
这些性能有助于实现ICP-MS在所有领域的广泛运用，而且确立了ICP-MS在痕量金属检测技能中的紧张地位。

表 各种原子剖析技能比较：

技能

剖析物

检测范围

优点

缺陷

ICP-MS大多数金属和非金属

ppt-ppm快速灵敏、多元素、动态范围宽、滋扰随意马虎掌握总溶解固体量(TDS)耐受性低

ICP-OES大多数金属和部分非金属中等ppb-中等ppm

快速多元素、高TDS耐受性

滋扰繁芜、灵敏度相对较低

GFAA

大多数金属

ppt

灵敏、滋扰少单元索检测、动态范围窄

氢化物AA

氢化物形成的元素

ppt-ppb

灵敏、滋扰少单元索检测、速率慢、繁芜

冷蒸汽Hg

Hg

ppt灵敏、谱图大略、滋扰少单元索检测、速率侵

质谱图常见滋扰

1、光谱滋扰

（1）同量异位离子滋扰

来源：两种不同元素的质量险些相同的同位素所造成的滋扰。

如：133In+——133Cd+

115In+——115Sn+

40Ar+——40Ca+

肃清：另选测定同位素、采取高分辨质谱仪、打算机软件校正。

（2）多原子分子离子滋扰

来源：在离子的引出过程中，由等离子体中的组分与基体或大气中的组分相互浸染形成的多原子离子所引起的滋扰。

如：14N2+——28Si+

14N16O1H+——31P+

肃清：扣空缺校正、反应/碰撞池技能、另选剖析同位素。

（3）氧化物和氢氧化物离子滋扰

来源：由剖析物、基体组分、溶剂和等离子气体等形成的氧化物和氢氧化物所引起的滋扰。

如：62TiO+——62Ni+

65TiO+——65Cu+

肃清：优化实验条件如功率、载气流速、去溶进样、反应/碰撞池技能、校正方法等。

（4）仪器和试样制备所引入的杂质离子滋扰

来源：采样锥和分离锥材料中溅出的金属离子以及试剂和水中微量杂质离子所造成的滋扰。

如：镍锥中溅射出的Ni+约为2 ng/mL;

酸和去离子水中的Cu+、Zn+为ng/mL级

肃清：降落等离子体的点位、利用超纯试剂和水、利用硝酸溶解固体（由于氮的电离电位高，其分子离子相称弱）

2、基体效应：

试样中各身分对剖析元素丈量的总效应。

来源：低电离能元素的电离抑制了待测元素的电离，以及提升量和雾化效率不同影响剖析物的电离和ICP温度等所引起的滋扰。

肃清：稀释、基体匹配、标准加入、内标法或同位素稀释等。