文章目录
[+]
专利择要显示,本发明公开了一种集成电解液pH值检测单元的硅电极及其制备方法。所述硅电极包括重掺杂硅基体、隔离层、键合层、pH值检测单元和绝缘层。本发明通过在硅电极上设置pH值检测单元,使得该硅电极集电解加工、侧壁绝缘、pH值检测单元于一体,在电解加工的同时实时监测间隙内电解液的pH值,用于反响电解加工间隙内沉淀物含量,办理了微细电解加工状态无法监测的难题,可实现加工检测一体化。
本文源自金融界

(图片来自网络侵删)
扫一扫用手机浏览
专利择要显示,本发明公开了一种集成电解液pH值检测单元的硅电极及其制备方法。所述硅电极包括重掺杂硅基体、隔离层、键合层、pH值检测单元和绝缘层。本发明通过在硅电极上设置pH值检测单元,使得该硅电极集电解加工、侧壁绝缘、pH值检测单元于一体,在电解加工的同时实时监测间隙内电解液的pH值,用于反响电解加工间隙内沉淀物含量,办理了微细电解加工状态无法监测的难题,可实现加工检测一体化。
本文源自金融界