可削减昂贵EUV光刻运用德国默克称DSA自组装技能十年内商用

IT之家注：DSA 全称为 Directed self-assembly，其利用嵌段共聚物的表面特色实现周期性图案的自动布局，在此根本上加以勾引，终极形成方向可控的所需图案。
一样平常认为，DSA 不适宜作为一项独立的图案化技能利用，而是与其他图案化技能（如传统光刻）结合光降盆高精度半导体。

▲ Anand Nambier 在发布会上。
图源 The Elec

Anand Nambiar 表示：“DSA 技能正处于起步阶段，我们相信它将在未来十年内成为 EUV 光刻生产中的一项基本技能。
由于 EUV 技能的利用本钱较高，客户希望减少利用 EUV 的步骤数量。
我们正在与环球紧张半导体公司开展 DSA 研究互助。
”据韩媒 The Elec 理解，三星电子和 SK 海力士等利用 EUV 光刻的公司都参与了干系研究。

DSA 在 EUV 的紧张运用是补偿 EUV 的随机偏差。
随机偏差占 EUV 工艺整体图案化偏差中的 50%。

不过，DSA 要商业化大规模运用，还须要减少其本身导致的问题。
目前，在利用 DSA 天生图案的过程中，会涌现气泡、桥和簇等类型的毛病。
个中，桥型毛病最为常见。

▲ DSA 技能毛病产生情形。
图源 imec

根据剖析机构 TechInsights 去年 1 月公布的数据，三星拥有 68 项 DSA 干系专利，而台积电和 ASML 分别持有 24 和 16 项。