光刻机霸主阿斯麦封神之路

芯东西（ID：aichip001）文 | 董温淑

现在，5nm制程芯片作为目前可量产的最前辈芯片，将是顶级手机的标配，也是摩尔定律真正的守卫者。
年内将推出的华为Mate 40采取的麒麟1020芯片、苹果iPhone 12搭载的A14仿生芯片不出意外，都会采取5nm制程。

不少证据正在证明这一点，3月份，有爆料称台积电成功流片麒麟1020；4月份，台积电宣告为苹果代工A14芯片；在近期的中美贸易摩擦中，台积电是否能按时向华为出货Mate 40芯片也其实让人捏了一把汗。
这持续串事宜之中，为两大手机龙头代工芯片的台积电成为关键角色，举足之间关系着华为手机芯片供应的命运。

然而，台积电能吃下苹果、华为的5nm订单，背后还少不了一家荷兰厂商的存在：芯片制造要想打破10nm以下节点，必须要用到EUV（极紫外线）光刻技能，而EUV光刻机只有荷兰公司阿斯麦（ASML）能造。
不论是5nm量产赛道第一名台积电，还是第二名三星，想造出产品，就只能先乖乖向阿斯麦订货。

作为环球5nm产线不可或缺的狠角色，阿斯麦到底是一家什么样的公司？

我们不妨先理解“光刻”这项技能的主要性。
如果把芯片比作刻版画。
芯片生产的过程便是在硅衬底这张“纸”上，先涂上一层名为光刻胶的“油墨”，再用光芒作“笔”，在硅衬底上“拓”出须要的图案，然后用化学物质做“刻刀”，把图案雕刻出来。

个中，以光芒为“笔”、拓印图案这一步被称为光刻。
在芯片制造几百道工序里，光刻是芯片生产中最主要的步骤之一。
图案线条的粗细程度直接影响后续的雕刻步骤。
目前市场上主流的光刻技能是DUV（深紫外线）技能，最前辈的则是EUV技能。

完成这一步须要用到的设备——光刻机，一台售价从数千万美元高至过亿美元。
要知道，美国最前辈的第五代战机F-35闪电II式的售价还不到8000万美元。

放眼环球，光刻机市场险些被3家厂商瓜分：荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在这3家中，阿斯麦又是当之无愧的一哥。
据中银国际报告，阿斯麦环球市场市占率高达89%！
别的两家的份额分别是8%和3%，加起来仅有11%。
在EUV光刻机市场中，阿斯麦的市占率则是100%。

要指出的是，阿斯麦并非生来就含着金汤匙。
阿斯麦成立于1984年，入局光刻机市场晚于尼康（1917年景立，1980年发售其首款半导体光刻机）和佳能（1937年景立，1970年推出日本首台半导体光刻机）。
成立之初，阿斯麦只有31名员工，还曾面临资金链断裂的窘境。

36年间，这家几近破产的小公司是若何发展为光刻机一哥的？又是如何在十多年里霸占第一宝座耸立不倒的？本日，智东西就来复盘这家荷兰光刻机之星的逆袭之路。

更为主要的一点，在美国偷袭华为芯片供应的组合拳里，阿斯麦间接或直接地成为一颗关键棋子，美国人凭什么限定阿斯麦的买卖，背后又有若何的渊源？

在郁金喷鼻香国度荷兰的南部，坐落着一个居和颜悦色数20余万的市镇，艾恩德霍芬，阿斯麦（Advanced Semiconductor Material Lithography，直译：前辈半导体材料光刻技能）总部就位于此。

阿斯麦是一家采取“无工厂模式”的光刻设备生产商，紧张产品便是光刻机，还供应做事于光刻系统的计量和检测设备、管理系统等。

翻开环球芯片厂商的光刻机订货单，个中绝大多数都发给了阿斯麦。
以2019年为例，阿斯麦共出货229台光刻机，净发卖额为118.2亿欧元，净利润为25.2亿欧元。
比较之下，尼康出货46台，佳能出货84台。

▲阿斯麦、尼康、佳能出货量比拟

除了出货量占优，阿斯麦（ASML）也代表着环球最顶尖的光刻技能。
在阿斯麦2019年卖出的229台光刻机中，有26台是当今最高真个EUV（极紫外线）光刻机。
而在EUV光刻市场，阿斯麦是唯一的玩家。

EUV光刻机采取13.5nm波长的光源，是打破10nm芯片制程节点必不可少的工具。
也便是说，就算DUV（深紫外线）光刻性能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有阿斯麦的EUV光刻机，芯片巨子台积电、三星、英特尔的5nm产线就无法投产。

韶光迈进2020，光刻机市场三分的格局中，阿斯麦已稳居第一10多年。
在“光刻机一哥”光环的背后，阿斯麦又有若何的故事？

智东西从技能路线选择、前辈技能攻关、资金支持、研发投入等方面入手，还原出这个故事真实、立体的脉络。

罗马不是一天建成的，阿斯麦的成功也绝非一挥而就。
今日风头无两的光刻机市场一哥背后，是一个卑微的开始和一段弯曲的往事。

故事要从20世纪80年代讲起，那时候间隔摩尔定律被正式提出（1975年）不到10年，增加芯片晶体管数目还不是让环球半导体学者挤破头的课题。
相应地，对光刻机光源波长的哀求较低。
当时的光刻机采取干衰落影技能，简言之，光源发光，光芒在涂有光刻胶的硅基底上“画”就完了。

比如，1980年尼康推出的可商用步进式重复式光刻机（Stepper），光源波长为1微米。
连芯片厂家英特尔也自己设了个光刻机部门，用买来的零件组装光刻机。

普通来说，步进式重复光刻机的事情事理是使涂有光刻胶的硅片与掩膜板对准并聚焦，通过一次性投影，在晶圆片上刻画电路。

▲尼康1980年推出的光刻机NSR-1010G

在这种背景下，荷兰电子产品公司飞利浦在实验室鼓捣出了步进式扫描光刻技能的雏型，但拿不准这项技能的商业代价。
思前想后，它决定拉人入伙，让互助者连续研发，这样既有人分摊本钱，也给了自己不雅观望的机会。

步进式扫描光刻技能的事理是，光芒透过掩膜板上的狭缝照射，晶圆与掩膜板相对移动。
完成当前扫描后，晶圆由事情台承载，步进至下一步扫描位置，进行重复曝光。
全体过程经由重复步进、多次扫描曝光。

▲步进式扫描光刻技能示意图

在飞利浦的设想里，空想的合资人当然是技能前辈、实力雄厚的美国大厂，如IBM、GCA之流。
但在美国走了一圈后，飞利浦意识到了现实的骨感：各大厂商纷纭表示谢绝。

但是，并非所有人都不看好飞利浦的光刻项目，就在飞利浦碰钉子之际，荷兰小公司ASMI（ASM International，直译为ASM国际）的老板Arthur Del Prado跑来，自荐要接下飞利浦的光刻项目。

▲Arthur Del Prado

ASM International创立于1964年，是一家半导体设备代理商，对制造光刻机并无履历。
因此，飞利浦犹豫了1年的韶光。
终极，1984年，飞利浦选择“屈就”，赞许与ASMI公司各自出资210万美元，合伙成立阿斯麦，由这才开启了阿斯麦的故事。

阿斯麦首任CEO为Gjalt Smit，任职韶光为1984～1988年。
据称，由于阿斯麦成立初期有名度较低，Gjalt Smit曾在未经授权的情形下在阿斯麦招聘广告中利用飞利浦的标志。

▲阿斯麦创始初期CEO Gjalt Smit

2013年至今，阿斯麦总裁兼CEO由Peter Wennink担当。
Peter Wennink早在1999年就加入了阿斯麦，曾担当过实行副总裁、首席财务官等职。
在加入阿斯麦之前，Peter就职于环球四大司帐师事务所之一的德勤司帐师事务所。

▲现任阿斯麦总裁兼CEO Peter Wennink

实在，在与飞利浦合伙成立阿斯麦之前约10年的1975年，ASMI就曾在喷鼻香港开设办公室。
最初，ASMI喷鼻香港办公室只卖力发卖，随着韶光推移，该办公室发展出了生产能力。
1988年，ASMI在喷鼻香港办公室的根本上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直译为ASM太平洋技能）。
到本日，ASMPT已发展为环球最大的半导体组装和封装技能供应商之一。

作为站在阿斯麦、ASMI、ASMPT背后的操盘手，Arthur Del Prado成为一代业界传奇，被誉为“欧洲半导体设备行业之父”。
2016年，这位传奇人物以85岁高龄逝世，但与他渊源颇深的三家半导体公司仍在创造新故事。
Arthur的宗子Chuck Del Prado，于2008年接替Arthur继任为ASMI CEO，并于2019年退休。
ASMI现任CEO是Benjamin Loh。
ASMPT现任CEO是Robin Ng。

回到阿斯麦的故事，飞利浦赞许出资210万美元成立阿斯麦，但谢绝供应更多资金和办公园地。
成立之初的阿斯麦只有31名员工，由于没有办公室，这31名员工就窝在飞利浦大厦外的大略单纯木板房里办公。
当时，飞利浦绝不会想到，这个险些被当作“弃子”的项目和退而求其次选择的小公司，孕育出的是能把尼康拉下马的光刻机新星。

▲垃圾车后面便是阿斯麦成立之初的大略单纯木板屋，其后的大厦是飞利浦大厦

如前所说，20世纪80年代还是光刻机的技能红利期。
在干衰落影技能的技能路线下，阿斯麦成立的第一年就造出了步进式扫描光刻机PAS 2000。
但是，技能的红利期很快就会过去，之后发生的统统会造就光刻机市场的新格局。

▲阿斯麦于1984年推出的PAS 2000

进入21世纪，为了延续摩尔定律，人们改进了晶体管架构办法，但光刻机光源波长卡在了193nm上。
这造成的后果是光刻“画”出的线条不足细致，阻碍晶体管架构的实现。
要办理这个问题，最直接的办法便是把光源波长缩短，比如尼康、SVG等厂商试图采取157nm波长的光芒。

实践中，实现157nm波长的光刻机并不随意马虎。
首先，157nm波长的光芒极易被193nm光刻机利用的镜片接管；其次，光刻胶也要重新研发；其余，比较于193nm波长，157nm波长进步不到25%，回报率较低。
但在当时，这彷佛是唯一的办法。

到了2002年，时任台积电研发副经理林本坚提出：为什么非要改变波长？在镜头和光刻胶之间加一层光芒折射率更好的介质不就行了？那么什么介质能增加光的折射率呢？林本坚说，水就可以。
与干式光刻技能相对，林本坚的技能方案被称为浸没式光刻技能。
经由水的折射，光芒波长可以由193nm变为132nm。

韶光再往回推15年（1987年），林本坚就职于IBM，那时他就有了浸没式光刻技能的想法。
2002年芯片制程卡在65nm之际，林本坚看到了浸没式光刻技能的机会。
为理解决技能难题、肃清厂商疑虑，林本坚花费半年韶光带领团队揭橥3篇论文。

当时，业界质疑水作为一种清洁剂，会把镜头上的脏东西洗出来，还有人担忧水中的气泡、光芒明暗等成分会影响折射效果。
根据林本坚团队的研究，他们提出了一种曝光机，可以保持水的清洁度和温度，使水不起气泡。
虽然这种曝光机并未在实际中被采取，但林本坚的研究证明了技能上的难题是可以被办理的。

他还亲自奔赴美国、日本、德国、荷兰等地，向光刻机厂商先容浸没式光刻的想法。
但是，有能力进行研发的大厂普遍不买账。

▲林本坚

个中原因也不难明得，自20世纪60年代起，玩家入局光刻机市场，在干式光刻技能上投入了大量财力、人力、物力，好不容易踏出一条可行的技能路线。
如果按照林本坚“加水”的想法，各位前辈就得“一夜回到解放前”，从技能到设备重新探索。
很少有人舍得这么高的沉没本钱。
但是，“很少有人”不代表“没有人”。

奔波到荷兰后，林本坚终于听到了一个好：阿斯麦愿做这第一个吃螃蟹的勇士。
2003年10月份，ASML和台积电研发出首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i。
2004年，阿斯麦的浸没式光刻机改进成熟。
同年，尼康宣告了157nm的干式光刻机和电子束投射产品样机。

但是，一壁是改进成熟的132nm波长新技能，一壁是157nm波长的样机，胜负不言而喻。

数据显示，在2000年之前的16年里，ASML霸占的市场份额不敷10%。
2000年后，阿斯麦市场份额不断攀升。
到2007年，阿斯麦市场份额已经超过尼康，达到约60%。

当命运之神把浸没式光刻微影的机遇摆放到阿斯麦、尼康等玩家面前，只有阿斯麦年夜胆地伸脱手，而尼康则是成也干衰落影、败也干衰落影。
在环球光刻机市场这一回合的较劲中，阿斯麦选择了精确的技能路线，从而赢得了后来居上的机会。

▲首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i

如果说推出浸没式光刻机让阿斯麦领先尼康一步，那么打破EUV光刻技能则让它成为了名副实在的光刻机一哥。
2010年至今，EUV光刻市场中只有阿斯麦一位玩家。

打破10nm节点能够带来的经济效益不必赘述，在浩瀚玩家中，为什么只有阿斯麦节制了EUV光刻机的核心技能？实际上，这与它凑集了美国、欧洲的顶级科研力量有关。
这段故事还要从1997年讲起。

1997年，英特尔认识到超过193nm波长的困难，渴望通过EUV来另辟路子。
为了能从其他玩家处借力，英特尔说服了美国政府，二者一起组建了一个名为“EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，极紫外线有限任务公司）”的组织。
EUV LLC里可谓是群英荟萃，商业力量有摩托罗拉、AMD、英特尔等，还搜集了美国三大国家实验室。

EUV LLC里，美国成员构成了主体。
在对外国成员的选择上，英特尔和白宫产生了不合。
英特尔看中阿斯麦和尼康在光刻机领域的履历，想拉他们入伙。
但白宫认为如此主要的前辈技能研发不该邀“外人”入局。

此时，阿斯麦显示出了惊人的前瞻能力，它向美国表示：我乐意出资在美国建工厂和研发中央，并担保55%的原材料都从美国采购，只求你们研究EUV一定要带我玩。

如此诚意让美国难以谢绝，就这样，阿斯麦成为EUV LLC里唯二的两家非美国公司之一，另一家是德国公司英飞凌。

反不雅观尼康，这一次则完备是吃了国籍的亏。
1998年揭橥的文件《互助研发协议和半导体技能：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，写明了尼康被打消在EUV LLC外的终极缘故原由：“……有人担心尼康会成功将技能转移到日本，从而消灭美国的光刻工业。
”

1997年到～2003年，阿斯麦和天下顶级的半导体领域玩家聚拢在EUV LLC，用了6年韶光回答一个问题：EUV有可能实现吗？他们创造答案是肯定的。
至此，EUV LLC义务完成，在2003年就地终结，个中各个成员踏上独自研发之路。

实在，其他欧洲、日本、韩国的玩家也曾探索过EUV光刻技能。
但是，他们的实力始终无法与搜集了美国顶级科研实力的EUV LLC比较，这意味着阿斯麦在EUV研发之路上占得先机。
国际光电工程学会（SPIE）官网写出了EUV LLC的主要性：“如果不是EUV LLC对技能的形成和追求，EUV光刻技能就不会成为IC制造领域的未来竞争者。
”

6年韶光里，EUV LLC证明了用极紫外线作为光源造光刻机是可行的，但却没指出一条明路。
到了2005年，EUV光刻机还是连个影子都没有，但巨额的研发资金、难以超过的技能瓶颈已经足以让大多数玩家望而生畏。
但是，阿斯麦还是不肯去世心，并且决定要牵头欧洲的EUV研发项目。
如果说在EUV LLC中，阿斯麦是蜷缩在角落里等待被其他大玩家“带飞”，那这一次，阿斯麦则是要自己做领头雁。

研发过程面临的困难无非集中在资金和技能两方面，阿斯麦把它们逐个击破。
缺钱？那就去找，阿斯麦从欧盟第六框架研发操持中拉来2325万欧元经费。
缺技能？阿斯麦凑集3所大学、10个研究所、15个公司联合开展了“More Moore”项目，着力攻坚。

终于，2010年，阿斯麦出货了首台EUV光刻机。
这台光刻机型号为NXE：3100，被交付给台积电，用于进行研发。

▲台积电2010年2月22日声明：《台积电吸收阿斯麦的EUV光刻系统用于下一代技能的研究与开拓（TSMC to TakeDelivery of an ASML EUV Lithography System for Research and Development on Future TechnologyGenerations）》

至此，在EUV市场，阿斯麦已经做到了人无我有，接下来的问题便是产品的迭代和进化。
2013年，阿斯麦收购了光源供应商Cymer，为公司量产EUV设备打根本。
经由几次升级，阿斯麦在2016年推出首台可量产的EUV光刻机NXE：3400B并得到订单。
NXE：3400B售价约为1.2亿美元，从2017年第二季度起开始出货。
直到本日，产品的迭代还在连续。
根据阿斯麦的信息，EXE：5000系列光刻机样机最快在2021年问世。

从1997年到2010年，13年的困难求索，终于让阿斯麦占领了EUV的技能高地。
费力付出终有回报，目前，阿斯麦仍是唯一节制EUV光刻技能的厂商。

▲阿斯麦的最新EUV光刻机TWINSCAN NXE：3400C

根据公开信息，一台EUV光刻机售价约为1.2亿美元，一台DUV光刻机的售价也要数千万美元。
在高额售价的背后，是前期研发阶段巨量的资金投入。
要支撑对光刻技能的研发，阿斯麦必须找到一条可持续的“财路”，否则就可能陷入困境。

事实上，阿斯麦也的确经历过“财政危急”。
1988年，阿斯麦进军***市场，还未来得及在新的市场竞争中喘口气，老雇主ASMI就因无法得到预期内的回报比作出撤资决定。
同时，由于当时环球电子行业市场不乐不雅观，飞利浦也宣告了一项本钱减少操持。
内外夹击之下，阿斯麦几近破产。
好在危急时候，时任阿斯麦CEO Gjalt Smit联系了飞利浦董事会成员Henk Bodt，后者说服了飞利浦董事会，为阿斯麦拉来一笔约1亿美元的“救命钱”。

这笔资金帮助阿斯麦在进军***市场的初期站稳了脚。
随后几年，阿斯麦凭借步进式扫描光刻机扭亏为盈，并于1995年3月15日在阿姆斯特丹和纽约证券交易所成功上市，上市首日市值为约1.25亿美元。

▲Henk Bodt

为了能够得到充足的资金支持，2012年，阿斯麦提出一项“客户联合投资操持”（CCIP，Customer Co-Investment Program），大略来说，便是接管客户的注资，客户成为股东的同时拥有优先订货权。
这无疑是一个双赢的举措：把阿斯麦的研发资金压力转移出去，让客户为前辈光刻技能的研发买单，这样不仅使阿斯麦无后顾之忧地进行研发，也担保了客户对前辈光刻技能的优先利用权。

2012年，芯片制造行业3大龙头英特尔、台积电、三星都推出了22nm芯片产品。
CCIP操持一经推出，这3家公司纷纭相应。
根据协议，英特尔斥资41亿美元收购荷兰芯片设备制造商阿斯麦公司的15%股权，另出资10亿美元，支持阿斯麦加快开拓本钱高昂的芯片制造科技。
台积电投资8.38亿欧元，获取阿斯麦公司约5%股权。
三星斥资5.03亿欧元购得3%股权，并额外注资2.75亿欧元互助研发新技能。

终极，阿斯麦以23%的股权共筹得53亿欧元资金。
要知道，2012年整年，阿斯麦的净发卖额才约为47.3亿欧元。

在科技圈，研发、创新能力便是生命力。
华为5G、芯片技能为什么强？任正非曾在接管采访时表示，2020年华为将把约200亿美元（约合公民币1420亿元）花在研发上。
而在研发方面，阿斯麦与华为一样“猖獗”。

早在2002年，阿斯麦就敢向浸没式光刻技能押注。
到了本日，大力投资搞技能研发已经成为阿斯麦的传统。

根据2019年度财报，阿斯麦整年投入了20亿欧元用于技能研发，占到净发卖额（118.2亿欧元）的16.9%。
比较之下，2019年尼康在光刻系统上的投资为3.98亿日元，占到光刻系统营收（2397.28亿日元）的约0.17%。

2007年开始，“时年”13岁的阿斯麦开始以领先的姿态傲然于光刻机市场，至今仍旧如此。
列出阿斯麦近些年的研发投入，或能阐明它这么多年来耸立不倒的缘故原由。

▲近5年阿斯麦研发投入及营收情形

其余，在专利网站Patentscope上的搜索结果显示，阿斯麦申请的专利数目已经达到14444项。
阿斯麦虽然是一家商业公司，但支撑它走得更远的，不是对金钱的追求，而是对技能的长远投资。

结语：36年造诣光刻机传奇

回顾过去36年，阿斯麦从一个蜷缩在木板房中的小公司发展为一代光刻机巨擘，个华夏因少不了历史的机遇，如林本坚应时提出了浸没式光刻技能的想法。
但是，更具决定性意义的是阿斯麦准确的前瞻和果断的选择，比如，在21世纪初，阿斯麦放弃干衰落影，转投浸没式光刻技能；再比如，早在1997年，阿斯麦以自身妥协换来EUV LLC的入场券。
对付商业与技能相互促进的关系，阿斯麦还有着深刻的理解，多年来对技能研发的大力投入，成为它耸立不倒的主要缘故原由。
手握顶尖的技能，阿斯麦还得到了客户的支持，从而在环球光刻机市场中走得更远。

以阿斯麦这36年的进程为鉴，比拟我国。
1977年，我国第一台光刻机出身，加工晶片直径为75毫米。
本日，国产光刻机制造商有上海微电子、中科院光电所等，最前辈的设备推进至22nm节点，而国际最前辈工艺已打破5nm节点。
国产光刻机无疑还有很长的路要走。

芯片是“中国制造”的痛点。
不论是近期华为被美国断供芯片的***，还是两会政府事情报告中“国产化”“功率半导体”“传感器芯片”等话题被几次再三提及，背后的事实都让人黯然：我们曾在一穷二白的条件下造出原子弹，但在GDP总量近100万亿公民币的本日，中国还是难以独立造“芯”。
在各类困难中，光刻技能直接卡住了芯片制造的“脖子”。

要办理这一问题，技能攻关当然是必不可少的。
其余，借力国外成熟产品或可帮助芯片制造商实现打破。
2018年，我国芯片公司中芯国际花费约1.2亿美元，向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。
由于各类缘故原由，目前，这台光刻机还未成功交付。
我们期待它能够尽快落地中国，助力我国的芯片奇迹再上一个台阶。
中国有市场、有人才，也不缺恒心与毅力，相信我国光刻机奇迹会有光明的未来。

参考文献：

1、《曾经的光刻机霸主：尼康营收暴减九成，裁员 700 人》EE Times China

2、《环球半导体设备龙头专题（一）》安信证券

3、《阿斯麦封神记：这家荷兰公司，扼住了环球半导体芯片的咽喉》魔铁的天下

4、《光刻机的发展与荷兰ASML公司的故事》光纤在线

5、《做成那不可能之梦：低调华人科学家颠覆技能 影响人类》知识分子

6、《More Moore” Shows European EUV Innovation at EUV 2006 in Barcelona》CORDIS